1、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
2、 材料制造：、 ，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
3、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
4、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定。
5、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，只需電費(fèi)，沒有其他耗材。
6、無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在40%－之間均可正常工作。
潤(rùn)滑裝置的基本要求①盡可能實(shí)現(xiàn)潤(rùn)滑系統(tǒng)機(jī)械化、自動(dòng)化，且性能良好、工作，各個(gè)潤(rùn)滑點(diǎn) 良好的潤(rùn)滑。②能均勻、連續(xù)地供應(yīng)潤(rùn)滑材料，并便于對(duì)潤(rùn)滑劑的供給量進(jìn)行調(diào)節(jié)。要考慮潤(rùn)滑劑的循環(huán)使用。③潤(rùn)滑裝置應(yīng)具有的過濾裝置和吸塵效能，潤(rùn)滑材料的清潔。④裝置的結(jié)構(gòu)盡可能簡(jiǎn)單，便于維護(hù)與檢修。⑤裝置的密封性能良好，不泄漏，不污染環(huán)境， 。
除塵凈化器有用玻璃制成的底坐和外殼，它同時(shí)也是電暈電極的絕緣子。除塵器的上面是一個(gè)帶射線分散器的激光器和聚焦鏡組，除塵凈化器在管道的下面裝有光電倍增器。激光器整奧倍增器固定在同一個(gè)光學(xué)的架座上，除塵凈化器它們可以在所有三個(gè)坐標(biāo)中由步進(jìn)電動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)而進(jìn)行工作。整個(gè)試驗(yàn)裝置圖。除塵器長(zhǎng)度為4m，電暈電極至收塵電極的間距為0.125m，通道高為。0.5m，除塵器在負(fù)壓狀態(tài)下工作，用周圍大氣運(yùn)行。
主要分為以下幾種：
1、光催化和生物凈化設(shè)備：光催化是常溫 反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中污染物 氧化成 的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在 的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾的高溫。從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如ti0、zn0、zns、cds及pbs等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體 中可根據(jù)需要選用，如cds半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，ti02的綜合性是 廣泛使用和 的單一化合物光催化劑。
2、工業(yè)廢氣的低溫等離子體的治理設(shè)備：等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體，其英文名稱是plasma，它是由 muir，于1927年在 低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時(shí)命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷數(shù) 體表現(xiàn)出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。
3、吸收設(shè)備：吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對(duì)vocs進(jìn)行吸收，再利用廢氣處理塔vocs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。含vocs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內(nèi)，在上升過程中與來自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|，凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了vocs的吸收劑通過熱交換器后，進(jìn)入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的vocs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的vocs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于vocs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。
4、吸附設(shè)備：在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí)，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時(shí)，吸附的對(duì)象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。而當(dāng)吸附進(jìn)行一段時(shí)間后，由于表面吸附質(zhì)的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時(shí)需要采用 的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附，以協(xié)的吸附能力，這個(gè)過程稱為吸附劑的 。因此在實(shí)際吸附工程中，正是利用吸附一 一再吸附的循環(huán)過程，達(dá)到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。
5、廢氣的燃燒及催化凈化設(shè)備：燃燒法用于處理voc與有惡臭的化合物很 ，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的化合物時(shí)，燃燒生成產(chǎn)物中hcl或so2，需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理。
除臭設(shè)備除塵凈化器當(dāng)潤(rùn)滑材料選擇后，應(yīng)采用適當(dāng)?shù)姆椒ㄅc裝置將潤(rùn)滑劑送到各潤(rùn)滑部位，潤(rùn)滑劑的輸送、分配、調(diào)節(jié)方法與裝置是否符合要求，對(duì)設(shè)備的潤(rùn)滑，提高設(shè)備的工作性能有著重要的作用。所以，在除臭設(shè)備除塵凈化器選型決策中， 考慮潤(rùn)滑裝置的相關(guān)要求，設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。
關(guān)鍵詞：絕緣子 除塵器 催化劑 吸收塔 熱交換器