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        氨分解制氫設(shè)備工藝流程

        發(fā)布時間:2024-09-15
        一.氨分解制氫流程簡述:
        利用液氨為原料,氨經(jīng)裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64nm3混合氣體,其中含75%的氫氣和25%的氮氣。所得的氣體含雜質(zhì)較少(雜質(zhì)中含水汽約2克/立方米,殘余氨約1000ppm), 再通過分子篩(美國uop)吸附純化器,氣體的露點可降至-600c以下,殘余氨可降至3ppm以下.
        氨裂解制氫爐可用于有色金屬,硅鋼、鉻鋼和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結(jié)、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導(dǎo)體器件的保護燒結(jié)和封結(jié)、鈀合金膜擴散純化氫氣的原料氣等。
        原料氨容易得到,價格低廉,原料消耗較少。氨裂解來制取保護氣體具有投資少,體積小,效率高等優(yōu)點
        二.氨分解制氫工作原理:
        氨(氣態(tài))在一定溫度下,經(jīng)催化劑(西南院z204)作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮氣,并吸收21.9千卡熱量,其主要反應(yīng)為:
        2nh3—3h2+n2-21.9千卡
        整個過程因是吸熱膨脹反應(yīng),提高溫度有利于氨裂解,同時它又是體積擴大的反應(yīng),降低壓力有利于氨的分解,氨分解制氫設(shè)備為使用*狀態(tài)。
        三.氫氣純化工作原理:
        當(dāng)氨分解制氫設(shè)備所產(chǎn)生的氫氣合格時再進(jìn)入氫氣純化作進(jìn)一步提純處理,裂解氫氣的純度很高,其中揮發(fā)性雜質(zhì)只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.
        氣體提純采用變溫吸附技術(shù)。變溫吸附(tsa)技術(shù)是以吸附劑(多孔固體物質(zhì))內(nèi)部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎(chǔ)的一種氣體分離純化工藝.常溫時吸附雜質(zhì)氣,加溫時脫附雜質(zhì)氣,
        分子篩表面全是微孔,在常溫常壓下可吸附相當(dāng)于自重20%(靜態(tài)吸附時的水份和雜質(zhì),而在350℃左右的溫度下,可以再生*,每24小時切換一次,以得到純度和雜質(zhì)含量均合格的產(chǎn)品氣體。
        吸附塔為兩塔并聯(lián)交替使用,可實現(xiàn)連續(xù)供氣。可根據(jù)客戶需要設(shè)計為自動工作24小時
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