talint edu是x射線talbot lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設置和微調(diào)干涉儀，并應用相位步進程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對比度和暗場對比度。硬件的設計使得，在按照我們的說明組裝（預裝）套件后，莫爾條紋將很容易在您的探測器上看到。莫爾條紋圖案的進一步微。下文小編將為您詳細講解有關《優(yōu)勢供應microworksx射線干涉儀talint edu》等內(nèi)容，歡迎您繼續(xù)閱讀，祝您生活愉快，謝謝~ talint edu是x射線talbot lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設置和微調(diào)干涉儀，并應用相位步進程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對比度和暗場對比度。
硬件的設計使得，在按照我們的說明組裝（預裝）套件后，莫爾條紋將很容易在您的探測器上看到。莫爾條紋圖案的進一步微調(diào)可以通過使用g1和g2支架中的微米螺釘使光柵繞光軸進行角旋轉，以直接的方式進行。
性能特點 由基板定義，基板是m6的試驗板，間距為25mm光柵是使用x射線liga技術制造的，該技術確保了高精度和高的高寬比（縱橫比）通過定位銷固定；對稱設置兩個光柵都可以通過調(diào)節(jié)測微螺釘繞光軸旋轉包含控制器
技術參數(shù) 產(chǎn)地：德國
長度：60厘米
寬度：15厘米
高度：20厘米
光柵開放區(qū)域
g0：15毫米
g1：70毫米
g2：70毫米
干涉儀的微調(diào)：僅調(diào)整g1和g2繞光軸的旋轉角度
樣品放置：簡單的旋轉臺，可在光軸內(nèi)外擺動樣品
相位步進：閉環(huán)壓電級。30nm分辨率
邊緣能見度：通常>15%
g0和g2的占空比：0.55
g0和g2的基板：400µm石墨
g1占空比：0.5
g1基板：200µm硅
詳細參數(shù)
產(chǎn)品應用
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